三星電子在中國投入5億美元 新建半導體後工程生產線
【新聞來源:韓聯社】 2013-09-15
三星電子9月12日表示,將新投入5億美元在西安高新區三星電子一期投資70億美元的高端存儲晶片項目(12英寸閃存晶片生產線),增建10-X奈米級NAND閃存晶片封裝測試及固態硬盤(SSD)組裝生產線。
後工程生產線計劃明年1月開始建設,明年底完工,位於在建的半導體工廠附近。由此,三星電子在西安進行的半導體設備相關投資總額達75億美元。

三星電子去年9月投入70億美元在西安建設10奈米級閃存產品的生產工廠。此外,為了在當地挖掘優秀人才並構建研發基地,在西安高新區設立規模達4227平米的研發中心。當天,三星副會長權五鉉、陜西省長婁勤儉、西安市長董軍等中國政府部門人士出席研究所揭牌儀式。到目前為止,三星電子在中國運營的研發中心共有8所。中國三星當天為了紀念西安半導體工廠投入建設1週年,決定與陜西省一道推進省內的社會貢獻活動(CSR),簽署了共建CSR示範區的業務協議。